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冶金 第240页

GB/T 24580-2009 重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法

适用范围 1.1本标准规定了重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱测试方法。本标准适用于二次离子质谱法(SIMS)对重掺n型硅衬底单晶体材料中痕量硼沾污(总量)的测试。 1.2本标准适用于对锑、砷、磷的掺杂浓度<0.2%(1×1020 at...

GB/T 24578-2015 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

适用范围 1.1 本标准规定了使用全反射X光荧光光谱定量测定硅抛光衬底表面层的元素面密度的方法。本标准适用于硅单晶抛光片、外延片(以下称硅片)尤其适用于硅片清洗后自然氧化层或经化学方法生长的氧化层中沾污元素面密度的测定测定范围为109 at...

GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

适用范围 1.1 本标准规定了硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法,本方法使用单色X光源全反射X光荧光光谱的方法定量测定硅单晶抛光衬底表面层的元素面密度。1.2 本标准适用于N型和P型硅单晶抛光片、外延片等镜面抛光的硅片,尤其适用于...

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